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曝光設(shè)備

BG-406系列曝光機(jī)

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BG-406系列曝光機(jī)

BG-406系列曝光機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)和曝光。

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產(chǎn)品描述

參數(shù)

BG-406系列曝光機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對(duì)準(zhǔn)和曝光。該系列曝光機(jī)包括4″、6″單/雙面曝光機(jī)，可實(shí)現(xiàn)單/雙面對(duì)準(zhǔn)、單面曝光。

The series of BG-406 Mask Aligners could be used in aligning and exposure process of small or middle scale IC, Diode, dynatron, GPP, LED, Power Electronic devices, etc. The series of Mask Aligners include 4″，6″single/double sides aligning and single side exposure.

主要技術(shù)指標(biāo) Main Specifications

性能名稱		技術(shù)指標(biāo)	Performance name		Technical index
適用最大基片尺寸		Max 6″（φ150 mm）	Applicable maximum substrate size		Max 6″（φ150 mm）
適用最大掩模版尺寸		Max 7″（175×175 mm）	Applicable maximum reticle size		Max 7″（175×175 mm）
對(duì)準(zhǔn)精度	頂部顯微鏡	±1μm	Alignment Accuracy	Top Microscope	±1μm
	底部顯微鏡	±2μm		Bottom Microscope	±2μm
曝光分辨率		1μm	Exposure Resolution		1μm