Product Center

產(chǎn)品中心

當(dāng)前位置：

首頁(yè)

產(chǎn)品中心

曝光設(shè)備

BG-406/8NIL 納米壓印機(jī)

產(chǎn)品分類

查看分類 



瀏覽量:

1000

BG-406/8NIL 納米壓印機(jī)

零售價(jià)

0.0

元

市場(chǎng)價(jià)

0.0

元

瀏覽量:

1000

產(chǎn)品編號(hào)

數(shù)量

庫(kù)存:

所屬分類

曝光設(shè)備



資質(zhì)文件

產(chǎn)品描述

參數(shù)

該設(shè)備為半自動(dòng)納米壓印設(shè)備，適用于MEMS、微光學(xué)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)和光電傳感器等領(lǐng)域。該產(chǎn)品自動(dòng)完成楔形誤差補(bǔ)償以及壓印工藝，操作簡(jiǎn)單，生產(chǎn)效率高，穩(wěn)定性好。

The semi-automatic Nanoimprint equipment mainly used for MEMS, Micro-optics, augmented reality and photoelectric sensors. The product automatically completes the wedge error compensation and Nanoimprint process of the substrate, with simple operation, high production efficiency and good stability.

主要技術(shù)指標(biāo) Main Specifications

性能名稱		技術(shù)指標(biāo)	Performance name		Technical index
適用基片尺寸		Max. 8″	substrate size		Max. 8″
適用掩模版尺寸		Max. 9″	Mask size		Max. 9″
晶圓或襯底厚度		0.2~1.1mm	Wafer or substrate thickness		0.2~1.1mm
對(duì)準(zhǔn)精度		±1.5μm	Alignment Accuracy		±1.5μm
對(duì)準(zhǔn)顯微鏡	放大倍率	40X~300X	Align the microscope	Magnification	40X~300X
	物鏡分離量	60~145mm		Amount of objective separation	60~145mm
分辨率		2μm	Resolution		2μm
曝光時(shí)間		0~999.9s	Exposure		0~999.9s