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BG-401B曝光機（LED）

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BG-401B曝光機（LED）

主要用于中小規(guī)模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光。本產(chǎn)品采用LED光源，操作方便、穩(wěn)定性高、重復性好，并具有較高的性能價格比，可廣泛應用于科研和生產(chǎn)。

零售價

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市場價

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產(chǎn)品編號

數(shù)量

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所屬分類

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資質文件

產(chǎn)品描述

參數(shù)

The machine is mainly used for alignment and exposure in process of small and middle scale IC. It is use LED light source, easy to operate, high stability, good repeatability, can be widely used in scientific research and production.

主要技術指標 Main Specifications

性能名稱	技術指標	Performance name	Technical index
適用基片尺寸	Max. φ4″（φ100mm）	Substrate Size	Max. φ4″（φ100mm）
適用掩模版尺寸	Max. 5″（125mm×125mm）	Mask Size	Max. 5″（125mm×125mm）
基片與掩模版分離間隙	0～0.05mm	Separation Gap Between Substrate and Mask	0～0.05mm
對準精度	±1μm	Alignment Accuracy	±1μm
曝光光源	UVLED燈	Exposure Light Source	UVLED lamp
曝光分辨率	1μm	Exposure Resolution	1μm